光焱量子科技激光扫描缺陷测绘系统

简要描述：光焱量子科技激光扫描缺陷测绘系统激光扫描缺陷影像仪，是激光束诱导电流测试（LBIC）的升级版，利用波长能量大于半导体能隙大的激光束，照射在半导体后产生的电子-空穴对，通过快速的扫描样品表面，获得影像分布，可以得到内部电流的变化来了解分析各种的缺陷分布，帮助分析样品制备质量以及帮助工艺改进。

产品型号： LSD4

所属分类：光焱量子效率分析仪

更新时间：2023-08-03

厂商性质：经销商

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品牌	其他品牌	应用领域	医疗卫生,化工,生物产业,能源,电子

ENLI LSD4 激光扫描缺陷测绘系统产品叙述

激光扫描缺陷影像仪，是激光束诱导电流测试（LBIC）的升级版，利用波长能量大于半导体能隙大的激光束，照射在半导体后产生的电子-空穴对，通过快速的扫描样品表面，获得影像分布，可以得到内部电流的变化来了解分析各种的缺陷分布，帮助分析样品制备质量以及帮助工艺改进。

ENLI LSD4 激光扫描缺陷测绘系统规格

型号	项目	规格
1-1	激发波长	a. 405 ± 5 nm（高可扩充至 4 个雷射） b. 多波长切换设计 c. 可软件控制输出波长
1-2	激光光点	a. TEM00 光斑 b. 单一波长光斑 < 100 um c. 全系列波长 < 200 um
1-3	扫描范围	a. 扫描面积：10 cm x 10 cm b. 可客制超过 16 cm x 16 cm之扫描范围
1-4	扫描分辨率	a. 扫描分辨率 - 10 um, ? 20 mm x 20 mm - 50 um, ? 100 mm x 100 mm b. 扫描频率 - 10 Hz, 25 Hz及 50 Hz - 10 Hz, ? 4,000,000 像素 c. 可由软件设定扫描分辨率
1-5	讯号量测模块	a. 16 bit A/D 解析能力 b. S/N 可达>1000 以上 c. 超低噪声放大器模块
1-6	量测时间	a. <1 mins (For 20 mm x 20 mm with 50 um resolution) b. <13 mins (For 160 mm x 160 mm with 50 um resolution)
1-7	尺寸	60 cm x 60 cm x 100 cm
1-8	测量分析软件	a. 激发波长切换 b. 雷射功率调整 c. LBIC 3D 图示 d. 2D 剖面分析（电深宽度比） e. 光电流回应分布分析（搭配长波长激光器） f. 数据保存与输出功能
1-9	计算机系统	a. x86 兼容计算器包含屏幕键盘与鼠标 b. 微软操作系统
1-10	选购项目1：连续光雷射	a. 可添加 375 nm/ 450 nm/ 520 nm/ 638 nm/ 650 nm/ 780 nm ± 5 nm b. b. 小功率：50 mW c. TEM00 输出 d. 功率输出稳定度：<2 %
1-11	选购项目2：外加偏压功能	a. 可施加偏压（0~5 V）（可扩充更大电压范围） b. 软件控制(选配)

ENLI LSD4 激光扫描缺陷测绘系统特点

● 可扫描光电流在样品表面的分布图像
● 可扫描各光电压在样品表面的分布图像
● 可扫描开路电压与短路电流分布
● 可分析表面脏污。
● 可分析短路区域分布
● 可辨识分析隐裂区域。
● 可分析少数载子扩散长度分布 (选配)
● 可做单波长量子效率 Mapping

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